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有机气体净化塔是两相反向流填料吸收塔。涂装废气从废气处理塔下的进气口进入净化塔，通风机迅速充满进气段的空间，上升到级填充吸收段。在填料表面，气相中的酸酸性(或碱性)物质与液相中的碱性(或酸性)物质发生化学反应，反应生成物质(多为可溶性酸性(碱性)类)随吸收液流入下部储液槽。未完全吸收的酸性(或碱性)气体继续上升到级淋浴段。形成---细雾滴与气体充分混合接触，继续发生化学反应，然后酸性(碱性)气体上升到二级填充段、淋浴段，进行与一级相似的吸收过程；

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由于半导体技术对操作室的清洁度要求---，通常使用鼓风机技术中挥发的各种废气，因此半导体行业的废气排出具有排出量大、排出浓度小的特点。这些废气排放主要分为酸性气体、碱性气体、有机废气和有毒气体4种。酸碱废气主要来自扩散、cvd、cmp、蚀刻等工序，这些工序用酸碱清洗液清洗晶片。目前，半导体制造技术中常用的清洗溶剂是和---混合剂。这些工序产生的废气包括--- 、---、磷酸等挥发气，碱性气体为氨。